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分析常見工業(yè)水處理設(shè)備堵塞的原因及注意事項
更新時間::2022-11-21 09:17:00

分析常見工業(yè)水處理設(shè)備堵塞的原因及注意事項!在化學(xué)場所見得多的水處理設(shè)備是什么?答案當然是工業(yè)水處理設(shè)備,工業(yè)水處理設(shè)備應(yīng)用預(yù)處理、反滲技術(shù)、超純化處理以及后級處理等方法將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完 全去除,并且將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及物均去除至很低的狀態(tài),那么常見工業(yè)水處理設(shè)備堵塞的原因分析及注意事項有哪些?

一、顆粒/膠體污堵

進水顆粒度>5um時會造成進水流道堵塞,引起模塊內(nèi)部水分分部不均勻,從而導(dǎo)致模塊整體性能降 低。如果EDI模塊的進水不是直接由RO產(chǎn)水端進入EDI模塊,而是通過RO產(chǎn)水箱經(jīng)過過壓泵供水,建議在進入EDI模塊前段增設(shè)保安過濾器(<0.2um)。在組裝EDI設(shè)備時,所有的連接管道系統(tǒng)應(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜質(zhì)進入模塊。

二、無機物污堵

如果EDI進水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)計值或者回收率超過設(shè)計值時,將導(dǎo)致濃水室和陰室的結(jié)構(gòu),生成鹽類物質(zhì)析出沉淀,通常結(jié)垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。即使這類物質(zhì)的濃度很小,接觸時間很短,但隨著運行時間的累加,仍有發(fā)生結(jié)垢的可能,這種硬度結(jié)垢后很容易通過酸洗去除。使用低PH溶液在EDI系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)沖洗,可以去除濃水室和陰室的結(jié)垢。當進水中的鐵和錳含量高,或者高TDS的以外進入到EDI模塊時,也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無機物污堵。也可以采用酸洗方式進行沖洗。

三、物污堵

當進水物污染TOC或TEA含量超過設(shè)計標準時,淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發(fā)生污堵?梢圆捎酶逷H值的藥水對淡水室及濃水室循環(huán)清洗可以將物分子清離子交換樹脂對這種污堵進行清洗。

以上講述的就是有關(guān)常見工業(yè)水處理設(shè)備堵塞的原因及注意事項,希望通過我們的講述對大家能有所幫助,如果有不明白的地方歡迎來電咨詢


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